Informationen über Silizium-Wafern
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Für die Solarindustrie stellt THIEME ein wegweisendes Anlagenkonzept zur partiellen Beschichtung von Silizium-Wafern im Siebdruckverfahren her, das eine hohe Druckqualität bei minimaler Bruchrate und niedrigen Rüst- und Wartungszeiten sicherstellt.Die vollautomatische THIEME Siebdruckanlage, zur sanften Bedruckung von Silizium-Wafern, ist als Rundtaktanlage mit speziell entwickelten Drucknestern konzipiert. Angepasste Materialtransportsysteme, integrierte Qualitätskontrollen und eine effektive Trocknung der Pasten sorgen für einen wirtschaftlichen Prozessablauf.Die THIEME Siebdruckmaschine hat vielfältige Anwendungen. Mit ihr können die unterschiedlichsten Druckmaterialien mit den unterschiedlichsten Farben und Pasten verwendet werden. Da wir die Leistungsmerkmale für unsere Kunden immer individuell ermitteln, bitten wir um Beachtung, dass bei Verwendung anderer Druckmaterialien oder anderer Farben und Pasten als solcher, wie sie in der Projektierungsphase eingesetzt werden, die Leistungsmerkmale sich ändern können. Bitte beachten Sie auch, dass Optionen und Sonderausstattungen Einfluss auf die Leistungsmerkmale der Maschine haben und dadurch Maße, Taktzahlen und Einsatzmöglichkeiten gegenüber der Standardausführung verändert sein können.
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